显微光蚀刻技术(对于显微光蚀刻技术简单介绍)

小伙伴们，你们好，今天云生来聊聊一篇关于显微光蚀刻技术，对于显微光蚀刻技术简单介绍的文章,网友们对这件事情都比较关注，那么现在就为大家来简单介绍下，希望对各位小伙伴们有所帮助。

1、显微光蚀刻技术，支持物表面经化学处理后，表面活性基团连接有光敏保护基团（以X表示）受到保护；合成时。

2、选择合适的光刻掩模（mask）如M1保护不需聚合的部位；需要聚合部位因没有掩模而在激光点光源的照射下，除去该部位的光敏保护基团，活性基团（OH）游离出来；加入单核苷酸（如dTMP）的亚磷酰胺活化端与该活性基团发生化学偶联反应。

文章到此就分享结束，希望对大家有所帮助。

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